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基于 PLC控制的湿式球磨机清洗系统
2019-05-17
介绍了一种基于 PLC控制的湿式球磨机清洗系统,该系统通过清洗液浊度检测系 统,判断湿式球磨机筒体清洗的程度,进而确定是否有必要继续进行清洗。系统具有结构简单,工 作效率高,球磨机筒体清洗效果好特点,为最终提高球磨机出料料浆质量,改善产品性能,生产出优 质永磁铁氧体磁瓦创造了条件。
Serial No. 600 April. 2019 现ꢀ 代ꢀ 矿ꢀ 业 MODERN MINING 总第 600期 2019 年 4 月第 4 期 基于 PLC 控制的湿式球磨机清洗系统 赵修彬ꢀ 邱伟国ꢀ 刘小龙ꢀ 舒云峰ꢀ 张ꢀ 伟ꢀ 李小艳 ( 中钢集团安徽天源科技股份有限公司) ꢀ ꢀ 摘ꢀ 要ꢀ 介绍了一种基于 PLC 控制的湿式球磨机清洗系统,该系统通过清洗液浊度检测系 统,判断湿式球磨机筒体清洗的程度,进而确定是否有必要继续进行清洗。 系统具有结构简单,工 作效率高,球磨机筒体清洗效果好特点,为最终提高球磨机出料料浆质量,改善产品性能,生产出优 质永磁铁氧体磁瓦创造了条件。 关键词ꢀ PLC 控制ꢀ 球磨机ꢀ 清洗系统 DOI:10. 3969 / j. issn. 1674-6082. 2019. 04. 043 ꢀ ꢀ 目前,永磁铁氧体磁瓦的生产是将原料置于球 磨机中湿式研磨,然后将泥料进行机压成型,成型后 [ 1] 的生胚干燥后,经打磨、充磁制成 。 完成原料研 磨并将泥料排出后,湿式球磨机内部需进行清洗。 一般通过人工向球磨机中注水,清洗液由简单的排 料方式排出,重复几次简单冲洗即可完成球磨机清 洗工作。 但这种传统的清洗方式难以将球磨机清洗 干净,残留在球磨机内部的泥料在下一批原料研磨 时会被研磨得更细,将严重影响下一批原料的研磨 质量;同时人工清洗过程繁琐,耗时耗力,清洗效果 图 1ꢀ 湿式球磨机清洗系统的结构示意 1 —电动机;2—传动皮带;3—支架;4—小齿轮;5—筒体;6—大齿轮; 7 —第一电动阀门;8—清洗液收集池;9—水泵;10—PLC 控制器; 1 1—触控屏;12—显示屏 其中清洗液收集池位于筒体进出料开口下方,浊度 仪位于清洗液收集池的内壁上;浊度仪和第二电动 阀门分别电性连接 PLC 控制器,清洗液收集池的底 部固定有若干支撑柱。 洗液检测部件的剖视结构示 意见图 2。 [ 2-4] 差 。 针对现有湿式球磨机清洗工艺存在的问题, 提出了一种基于 PLC 控制的湿式球磨机清洗系统。 1 ꢀ 系统组成与工作原理 1 . 1ꢀ 系统组成 基于 PLC 控制的湿式球磨机清洗系统包括电 动机和筒体,筒体的左端固定有大齿轮,筒体固定在 支架上。 电动机的输出轴通过传动皮带、传动轴、传 动轮及小齿轮连接筒体左端固定的大齿轮,筒体上 设有进出料开口;清洗系统还包括第一电动阀门、水 泵、PLC 控制器、触控屏、显示屏及清洗液浊度检测 部件;PLC 控制器分别电性连接用于人机交互对话 的触控屏、显示屏、第一电动阀门、水泵、电动机及清 洗液检测部件;第一电动阀门位于筒体的进出料开 口处,系统结构见图 1。 图 2ꢀ 洗液检测部件的剖视结构示意 1 —清洗液收集池;2—光源;3—光检测元件; 4 —支撑柱;5—第二电动阀门 浊度仪包括光源和光检测元件,其中光源位于 清洗液收集池的左壁内侧,发出横向水平的光线;光 检测元件位于清洗液收集池的后壁内侧,检测纵向 水平的散射光线。 由于光检测元件仅检测与光源 射光线相垂直的散射光线,降低了光(下转第151页) 清洗液浊度检测部件包括清洗液收集池、浊度 仪及清洗液收集池底部出液口处的第二电动阀门, ꢀ ꢀ 赵修彬(1987—),男,工程师,243000 安徽省马鞍山市霍里山大 道南段 9 号。 1 53
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